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太阳能电池刻蚀工艺流程
2024-12-03IP属地 美国0

1、清洗制绒:通过机械刻蚀和化学刻蚀的方法在硅片表面形成凹凸不平的绒面结构,增加硅片的表面积,减少反射损失,清洗的目的是清除制绒过程中产生的残渣以及硅片表面附着的杂质。

2、扩散制结:将硅片放在高温扩散炉内,通过扩散工艺在硅片表面形成一层薄薄的含氮扩散层,形成正面接触和背面接触,这个过程是形成太阳能电池的基础结构。

3、刻蚀去边:通过化学腐蚀的方法去除周边不需要的扩散层,形成有效的电池面积,刻蚀过程分为干刻和湿刻两种,干刻采用等离子刻蚀技术,湿刻采用化学腐蚀液。

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4、镀减反射膜:在硅片表面镀一层氮化硅减反射膜,减少入射光的反射损失,提高电池的转换效率,这个过程通常采用化学气相沉积(CVD)技术实现。

5、丝网印刷:将银浆印刷在电池的正负极上,形成电极结构,以便与外部的电路连接,印刷过程中要保证浆料的均匀性和准确性。

6、高温烧结:在高温环境下烧掉印刷的有机溶剂和多余的银浆,形成牢固的电极结构,这个过程还可以使电极与硅片的接触更加紧密。

7、测试与分选:对电池进行测试和分选,确保电池的性能和质量符合标准,测试内容包括电池的电压、电流、转换效率等参数。

8、包装出货:最后进行必要的包装处理,然后出货。

具体的工艺流程可能会因生产设备和工艺技术的不同而有所差异,如需了解更多信息,建议咨询太阳能电池制造行业的专业人士。